Adresse
Am Sandborn 14
63500
Seligenstadt
Hessen
Deutschland
Unternehmensart
Hersteller
Geschäftsregionen
Weltweit
Verfügbare Sprachen
Zertifikate
DIN EN ISO 9001:2015
Gründung
1996
Mitarbeiter
15
Management
Joachim Scherer
Über Aurion Anlagentechnik GmbH
Mit ihrer langjährigen Erfahrung und Expertise aus der Vielzahl ihrer Projekte, den zahlreichen Innovationen und der aktiven und tiefen Einbindung in die Forschungslandschaft ist die AURION Anlagentechnik GmbH seit mehr als 20 Jahren Innovationstreiber und Teil der Erfolgsgeschichte der Plasmatechnologie.
Seit dem Beginn ihrer industriellen Anwendung in den 1970er Jahren hat die Plasmatechnologie eine äußerst dynamische Entwicklung und eine stetig wachsende Bedeutung erlebt. Heute ist sie in fast allen Technologiefeldern der Oberflächenbehandlung unverzichtbar und wird in immer mehr Branchen zur technisch und ökonomisch optimalen Lösung.
Jede Plasmaanwendung verfolgt spezifische Ziele und hat besondere Anforderungen und Rahmenbedingungen. AURION setzt sich zum Ziel, den besten Weg neu zu denken, ausgehend von der spezifischen Herausforderung bis hin zur individuellen Lösung. Hieraus entsteht die Anwendungsinnovation der variablen, flexiblen und modularen AURION-Anlagenkonzepte und -Komponenten.
Mit dem AURION-typischen Projektzyklus entsteht eine kundenspezifische Anlage oder Komponente, die in jeder Phase ihrer Entstehung eng mit den Kunden abgestimmt ist, stets die spezifisch beste Lösung sucht und so immer einen neuen Weg denkt - und geht.
AURION-Anlagen und -Komponenten sind spezifisch entwickelte Anwendungsinnovationen.
Produkte und Dienstleistungen von Aurion Anlagentechnik GmbH (19)
Plasmen werden für eine große Zahl von Aufgaben in der Oberflächenbehandlung verwendet, zum Beispiel Beschichtung, Aktivierung von Kunststoffen, Ätzen von Halbleiterbauelementen und Reinigung. Zur Rei...
Als Sputtering oder Sputtern wird allgemein das Herausschlagen von Atomen aus einem Festkörpertarget mittels Stoß durch beschleunigte Gasionen bezeichnet. Diese Technik findet in vielen Fällen bei der...
Plasmen werden für eine große Zahl von Aufgaben in der Oberflächenbehandlung verwendet, zum Beispiel Beschichtung, Aktivierung von Kunststoffen, Ätzen von Halbleiterbauelementen und Reinigung. Zur Rei...
Plasmen werden für eine große Zahl von Aufgaben in der Oberflächenbehandlung verwendet, zum Beispiel Beschichtung, Aktivierung von Kunststoffen, Ätzen von Halbleiterbauelementen und Reinigung. Zur Rei...
Der RIE-Prozess (Reactive Ion Etching) ist ein Trockenätzver¬fahren, welches vor allem in der Elektronik- und Mikroelektro¬nikfertigung zur schnellen Oberflächenreinigung bzw. aktivierung, zur Verasc...
Automatische Impedanz-Anpassungsnetzwerke (PRODIK-Serie) für den Leistungsbereich 300 W bis 30 kW, Schalter bis 60 kW, modulare Matrizen, Power-Split für Simultanbetrieb von einer Versorgung, Übertrag...
Plasmen werden für eine große Zahl von Aufgaben in der Oberflächenbehandlung verwendet, zum Beispiel Beschichtung, Aktivierung von Kunststoffen, Ätzen von Halbleiterbauelementen und Reinigung. Zur Rei...
Plasmen werden für eine große Zahl von Aufgaben in der Oberflächenbehandlung verwendet, zum Beispiel Beschichtung, Aktivierung von Kunststoffen, Ätzen von Halbleiterbauelementen und Reinigung. Zur Rei...
Als Sputtering oder Sputtern wird allgemein das Herausschlagen von Atomen aus einem Festkörpertarget mittels Stoß durch beschleunigte Gasionen bezeichnet. Diese Technik findet in vielen Fällen bei der...
AURION bietet speziell auf Ihre Anforderungen zugeschnittene Mehrkammeranlagen mit Substrathandhabung unter Vakuum an. Die erhältlichen Konfigurationen umfassen Schleusenka...
Automatische Impedanz-Anpassungsnetzwerke (PRODIK-Serie) für den Leistungsbereich 300 W bis 30 kW, Schalter bis 60 kW, modulare Matrizen, Power-Split für Simultanbetrieb von einer Versorgung, Übertrag...
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