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Als Sputtering oder Sputtern wird allgemein das Herausschlagen von Atomen aus einem Festkörpertarget mittels Stoß durch beschleunigte Gasionen bezeichnet. Diese Technik findet in vielen Fällen bei der Herstellung dünner Schichten Anwendung. Man unterscheidet DC-Sputtering für alle elektrisch leitfähigen Substanzen, HF-Sputtering für Isolatoren aber auch Leiter und reaktives Sputtering (Argon + geringe Menge Reaktivgas).