Produktanfrage
Der RIE-Prozess (Reactive Ion Etching) ist ein Trockenätzver¬fahren, welches vor allem in der Elektronik- und Mikroelektro¬nikfertigung zur schnellen Oberflächenreinigung bzw. aktivierung, zur Veraschung von Fotolack oder zur Struktu¬rierung von Schaltungen eingesetzt wird. Der RIE-Prozess vereint die Vorteile eines chemischen und eines physikalischen Abtrags: Hohe Selektivität, hohe Ätzrate, anisotroper Abtrag.